荷兰光刻机变成光刻厂的清华大学SSMBEUV方案，传的是越来越有眉目了。从网上透露的图片来看，高能同步辐射光源确实在建造中。

最早17年清华大学成立由唐传祥教授代领的SSMB研究团队开始，经过5年的努力在21年发表稳态微聚束原理的实验演示的论文，证明了该原理的可行性。没过多久作为基建狂魔的我们就开始进入建设阶段，并且获得央视报道。 所以网上有些人认为是骗经费，这不可能的，可以歇歇了。这次是真的！

阿斯麦的模式几纳米的芯片就用几纳米的光刻机生产，我们工艺落后人家太多，就算奋起直追，消耗的人力物力太大，最理想状态今年年底上海微电子的28NM光刻机可以实现已经很不容易。

而清华大学的SSMB光源本来就是一种EUV光源，只是对其他国家来说，他们觉得没必要，搞这么大干嘛，需要就找阿斯麦、找啊。本来我们也是这样想的，只是后来因为许多原因，没办法，只能去尝试现在建设光刻厂的道路。我很喜欢网友的一句评论，任务要打到500米开外的目标，阿斯麦是狙击枪，一枪精准爆头，我们直接造一把499米的枪管，怼别人头上。过程不一样，但结果是一样的嘛。

还有些人担心良品率和损耗问题，其实大可不必，国产芯片半导体需求丰富，按照现在光刻机巨大化模式，一台100-150米环形加速器的光源，可以带动数台甚至数十台的光刻机进行工作，变成芯片加工流水线。一次性都搞定 3-28NM所有需求，成为庞大的产业园区。

所以没人规定光刻机一定得张阿斯麦那样，我们就要有自己的特色力大砖飞也不是不行嘛。从投资角度，对未来光刻机设备、零部件国产替代采购量是巨大的，明年阿斯麦彻底对我们断供，国内光刻机相关公司，都需要开足马力去弥补市场需求。