日本的“废铁”计划

为了打压中国半导体，日本媒体喊出了口号：将中国光刻机变成一堆“废铁”！一向以谎话连篇闻名于世的BBC也兴奋了：日本此举将会给中国半导体产业重磅一击！

早在今年1月初，日本就加入了由美国主导的美日荷半导体三方协议，对更多的先进半导体制造设备实施限制出口，从源头掐断中国的芯片发展。

而日本为了彻底压制中国芯片，还掏出了秘密武器——光刻胶，就靠着这玩意，日本才信心满满的高呼，要让中国所有光刻机变成一堆废铁，彻底让中国接受成为低端工厂的命运。

光刻胶是啥？它是光刻机生产、芯片生产的核心原材料之一，其作用是用于抗腐蚀涂层材料。

利用光化学反应将经过衍射和滤波处理后的光信息转化为化学能量，从而实现微细图案的转移至待加工基片上。

光刻工艺作为最核心、最重要的加工环节，耗时达到整个芯片工艺的40%~50%。光刻胶又是光刻工艺中最为核心的材料之一，它的纯度、质量都直接决定芯片的良率。

而好巧不巧，在国际市场上一直垄断着光刻胶产能的，便是打压中国芯打压得最狠的两个国家：美国与日本！

火烧眉毛的光刻胶

现在10nm制程以下的光刻胶，基本上只有日企能够生产。前段工序常用的材料一共19种，其中更呈14种都由日本企业主导。

而且光刻胶储存困难，保质期只有半年，他国不好防备；于是拿着这个大杀器，日本在国际半导体格局中横行无阻。

2019年日本停止向韩国供应光刻胶，导致三星的芯片质量直接是断崖式下跌。

两年前，日本福岛发生地震，附近的光刻㬵工厂以此为由集体停工，给中国刚刚起步的芯片产业来了一次重击，可以说，如果没有自主国产的光刻胶，我们会被日本人拿捏得死死的！

中国国产光刻胶突破

但日本没想到，美国没想到，全世界人民都没想到，中国这么快就做出了国产光刻胶！

日本7月23日开始执行美国的半导体禁令，结果仅仅两个月后中国就取得了突破，美国与日本最担心的事发生，可谓是禁个寂寞。

今年9月初，我们的南大光电公司正式宣布消息，已经成功自主研发了ArF光刻胶的核心原料，并进入了大规模测试阶段，这意味着公司不再依赖外部供应链，能自给自足。

国家将光刻胶的研发和生产重务也交给了南大光电，南大光电也不负所托，南大光电的技术总监许从应甚至把自己所有的家产都投入到这个项目中，而这样的决心和勇气最终得到了回报——中国开始拥有了量产光刻胶的能力。

此前，因为光刻胶技术难度大，主要还是日美的几家大公司独占鳌头。比如，日本的四大企业：JSR、东京应化、日本信越化学和富士电子材料，一手包揽了全球70%的市场。

而现在这些国际巨头，必须开始面对来自中国本土光刻胶巨头的挑战！而这也是日本加入美芯制裁后注定要遭遇的反击。

日本禁了个寂寞

美国联手荷兰与日本封杀各种关键的芯片设备、材料，给中国芯雪上加霜，不仅阻止我们制造高端芯片，连中低端芯片也不让我们生产。

光刻机只占芯片制造成本的20%，再加上其它的半导体设备与材料，才能构成整条芯片生产线，而日本做得比老美还要彻底，23类半导体产品全部都要一网打尽。

很多人痛心疾首，认为此举对我们的影响肯定非常大，但不只是光刻胶，23种产品中的大部分我们都可以在一定程度上实现国产替代。

薄膜沉积设备，我们有北方华创、拓荆科技；清洗设备，至纯科技做到了28nm；国产刻蚀机，中国更是已经能做到5nm……

随着日本企业主动“让出”中国市场，中国国产企业终于获得了千载难逢的良机。

后话

回顾半导体发展史，每一次产业转移都是在新兴终端市场需求崛起的背景下，再得到政策的强力支持。

我国也意识到了这一点，采取了具体措施和各种产业扶持来推动光刻胶等关键产业的发展，并将其提升为国家战略层面。

但这并不代表我们可以就此高枕无忧，毕竟做一道成功的菜，你光有一种材料不行，还需要各种配料。

做菜如此，光刻机也是如此，而且光刻机动辄几万或者几十万的零部件，其难度是十分高的。

技术突破解决的是从零到一的问题，而要实现从一到一百的水平，就需要中国全体产业的通力合作，形成了我们自己的产业集群。

我们已经撕开了一个口子了，对于国产光刻胶、中国芯片而言，现在也仅仅是开始，摆脱血汗工厂还有很长的路，国产光刻胶让我们扒着井沿向天上看了一眼，但这一眼就是万年。