2024年1月1日，荷兰光刻机巨头ASML发布声明宣布，由于一项出口许可证近期被荷兰政府撤销，两台DUV光刻机将无法交付给中国客户。

具体受影响的光刻机型号为Twinscan NXT：2050i和Twinscan NXT：2100i，这是该公司最先进的深紫外（DUV）光刻机，其分辨率小于等于38纳米。

其中，Twinscan NXT：2100i型光刻机优于前者，硬件和软件方面都进行了大幅更新改进，单机覆盖率比前者提高了10%（0.9 nm），匹配机器覆盖率提高了13%（1.3nm）。

这两台光刻机每小时可处理多达295个晶圆，可用于制造芯片和存储器，如果采用多重曝光技术，可以用来制造7纳米甚至5纳米级的芯片。

ASML公司在声明中没有明确地说明具体原因，但委婉地表示该公司近期和美国政府进行了交流沟通，“最新的美国出口规则（2023 年 10 月 17 日发布）对某些可用于制造先进工艺的DUV浸没式光刻机增加了（出口）限制。”

而ASML公司出口光刻机必须遵守美国和荷兰政府的相关法令，美国不允许出售可用于制造14纳米、16纳米和更先进制造节点的生产设备给某些特定的国家。因此，ASML公司将无法将这两台光刻机交付给中国客户。请注意：本部分内容是坊间的分析猜测，ASML公司在声明中没有明确说明。

ASML公司最后在声明中强调：

“预计该项出口许可证被撤销和美国制定的最新出口管制，不会对我们2023年财务盈收产生重大不利影响。ASML公司将完全遵守所有相关的法律和法规，包括我们经营所在国的出口管制立法。”

补充说明：图一为ASML公司的官网声明截图，原文为英文，为方便读者阅读理解使用机器翻译，仅供参考。