你知道这面镜子有多光滑吗？

如果把这个镜头放大到美国国土那么大，那么整个美国就是一个表面粗糙度小于0.4毫米的大平原。

别忘了，这还是镀了数十层膜后的光滑度，也就是说每一层膜都要更加平整。

这就是芯片制造领域EUV光刻机上的镜头。

以至于阿斯麦的工程师说过，这可能是宇宙中最光滑的人造物体了。

而EUV光刻机里有几十块这样的透镜，它们协同工作，将极紫外光聚焦到硅晶片上，从而刻画出极其微小的电路图案。

任何一个透镜哪怕有微小误差，都难以造出合格的芯片。

想要加工这么高精度的镜子，就得有两个必不可少的设备，超精密数控机床和高精度的检测装置。

这俩设备，估计很多人听到都会一声长叹吧，没办法，确实是老大难问题。

那为什么EUV光刻机，需要这么高精度的透镜？

主要原因在于，EUV光刻机要通过精准控制激光器，连续两次照射滴落的液态锡珠，才能得到波长为13.5nm的稳定极紫外光。

然而，这时候的光源并不能直接拿来用，还需要经过一系列反射镜片不断的矫正，才能成为可用光源。

而每次反射都会增加误差，这就要求镜面的平整度极高，必须比光刻尺度还要低上1000倍。

此外，每块透镜的位置、姿态、间距都有严格的要求，比如位置误差必须小于1nm。

同时还要能尽量消除光损失而产生的热量，以防止热变形而影响光路。

即便这样，极紫外光在通过这些镜片时仍有大约30%的吸收率，最终真正用于光刻芯片的光强只剩下2%。

而这已经是人类技术能够实现的最高水平了。

值得一提的是，EUV光刻机的镜头并不是阿斯麦自家的技术，而是德国蔡司帮忙量身打造的。

在全球光学技术上，蔡司如果称第二，就没有人敢称第一了。

目前先进的超光滑表面粗糙度为0.1nm左右，蔡司能做到0.05nm，真的不服不行。

难怪有人说，EUV光刻机就是人类智慧的结晶，代表了人类科技的巅峰！